我国精密抛光工艺受制美日:进口设备价格超千万

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据科技日报6月26日报道,茫茫宇宙中,另另两个多多类金属合金宇宙探测器以超光速掠过,它由被强互作用力锁死的质子与中子构成,因表面绝对光滑而可不要能反射一切电磁波,日后无坚不摧……这是刘慈欣在科幻小说《三体》中提到的你你是什么叫金“水滴”的宇宙飞行器。

事实上,人类对“绝对光滑”的追求也日后从科学幻想转变为实践,比如推动“集成电路变身革命”的超精密抛光技术。像《三体》中描述的一样,当前最为先进的化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)技术也已进入原子尺寸级。而当电子工业强国争相攀登或到达你你是什么工艺巅峰之时,亲戚亲戚朋友却还必须仰望。

现代电子工业,超精密抛光是灵魂

物理抛光是上世纪60 年代日后最为常用的抛光技术,日后电子工业的高速发展对材料器件的尺寸、平整度提出没办法 严苛的要求。当一块毫米深度的基片须要被制成几十万层的集成电路时,传统老旧的抛光工艺日后远远必须达到要求。

“以晶片制造为例,抛光是整个工艺的最后一环,目的是改善晶片加工前一道工艺所留下的微小匮乏以获得最佳的平行度。”中科院国家纳米科学中心研究院王奇博士向科技日报记者介绍。

今天的光电子信息产业水平,对作为光电子基片材料的蓝宝石、单晶硅等材料的平行度要求没办法 精密,日后达到了纳米级。这就意味,抛光工艺也已随之进入纳米级的超精密程度。